ASML(荷兰阿斯麦)正抓紧研制其下一代高NA(0.55数值孔径)的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代设备。
具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NA EUV光刻机了。
高NA EUV光刻机允许加工更精密的半导体芯片，生产效率也更高，它也是2nm及更先进工艺的必要条件。
韩国设备商透露，现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元(约合10~16亿元人民币)，而高NA EUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元(约合26亿元)。
据了解，在三季度财报中，ASML完成58亿欧元的净销售额，毛利率51.8%、净利润17亿欧元，公司预计四季度净销售额在61~66亿欧元之间。
CEO Peter Wennink，其三季度预订产品的销售额达到创纪录的89亿欧元，其中EUV设备就有38亿欧元。
文章来源：
快科技
版权声明：本文内容由互联网用户自发贡献，该文观点仅代表作者本人。本站仅提供信息存储空间服务，不拥有所有权，不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容， 请联系我们，一经查实，本站将立刻删除;如已特别标注为本站原创文章的，转载时请以链接形式注明文章出处，谢谢！
还木有评论哦，快来抢沙发吧~